印度理工學(xué)院甘地訥格爾分校的科研人員宣布,已成功制造出世界最薄材料,厚度僅為一張紙的十萬分之一。這一新材料可應(yīng)用于下一代電池和能吸收紫外線的涂料等。

　　據(jù)今日俄羅斯電視臺網(wǎng)站5日報道,利用二硼化鎂造出的新材料厚度僅為1納米。人類一根頭發(fā)厚度約8萬納米,脫氧核糖核酸(DNA)的直徑也有2.5納米。

　　印度理工學(xué)院甘地訥格爾分�；瘜W(xué)工程系的卡比爾·賈蘇亞說,新材料制造方法“特別簡單”,將二硼化鎂溶于水,并掌握好再結(jié)晶時間即可。

　　賈蘇亞說,此前制造類似納米材料需要凝華過程,這一過程的高昂成本限制了它們的應(yīng)用范圍。而此次造出的新材料能被用于制造吸收紫外線的透明薄膜、工程用儲氫材料,以及下一代電池和納米催化劑等。

　　超薄材料一直是熱門科研課題。制成石墨烯的兩名科學(xué)家2010年獲諾貝爾物理學(xué)獎。(海洋)【新華社微特稿】